[알파경제=김영택 기자] 삼성전자의 핵심 반도체 기술을 중국 기업으로 유출한 혐의를 받는 전직 연구원이 실형을 선고받았다. 서울중앙지법 형사28부(재판장 한대균)는 22일 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 구속기소된 전모(56) 씨에게 징역 7년을 선고했다.

전 씨는 삼성전자 부장 출신 김모 씨와 공모해 중국 반도체 업체인 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직하는 과정에서 삼성전자의 D램 반도체 공정 기술을 유출한 혐의를 받는다. 해당 기술은 삼성전자가 1조 6,000억 원을 투입해 세계 최초로 개발한 10나노급 D램 최신 공정 기술로 확인됐다. 

 

조사 결과, 전 씨는 기술 유출의 대가로 CXMT로부터 계약 인센티브 3억 원과 스톡옵션 3억 원을 포함해 6년간 총 29억 원의 금품을 수수한 것으로 드러났다. 지난해 5월 구속기소 된 전 씨는 재판 과정에서 범행 가담 사실이 입증됐다.

재판부는 이번 사건이 국가 핵심기술을 유출한 중대한 범죄라고 판단했다. 재판부는 “기업은 물론 대한민국 전체에 막대한 손실을 입혔기 때문에 엄벌이 불가피하다”고 판시하며 전 씨의 공모 혐의를 모두 유죄로 인정했다.

 

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