[알파경제=이준현 기자] 삼성반도체가 반도체 생산 공정에서 수율 확보 방식을 기존 순차방식(Sequential Approach)에서 다중방식(Multi-Stage Approach)으로 전격 전환했다고 알려졌다.

이번 변화는 생산 효율성을 극대화하고 불량률을 낮추기 위한 전략적 결정으로 풀이된다.

24일 삼성전자 내부 사정을 잘 아는 관계자는 알파경제에 “삼성이 최근 반도체 수율 확보 방식을 순차에서 다중으로 전환했다”면서 “최첨단 1c D램 확보 수율이 50%~80%까지 들쭉날쭉한 이유는 모든 공장이 동시다발적으로 수율경쟁을 벌이고 있기 때문”이라고 설명했다.

종합하면 기존 삼성 반도체는 양산 가능한 수준인 20~30% 수율이 확보되면 1공장에서 먼저 이익 충족 기준수율 70~80% 수준까지 끌어올렸다. 1공장 수율확보 후 2공장과 3공장, 4공장으로 순차 양산을 이어왔다.

하지만 올해부터 전영현 부회장 지시로 20~30% 양산 수율 1c D램을 1공장부터 4공장까지 동시에 수율잡기 경쟁체제로 돌입한 것으로 전해진다.

이후 가장 앞선 수율확보 공장의 기술방식을 타 공장에도 적용하면서 빠르게 수율확보에 도달하는 무한경쟁 체제로 전환, 빠르게 최첨단 공정의 이익 확보전략을 구사한 것으로 알려졌다. 

 

새로 도입되는 다중 방식은 여러 공정을 동시에 진행시켜 수율을 관리하는 것으로 전체 공정 시간을 단축하고, 설비 가동률을 높여 생산성도 크게 향상 시킬 수 있다.

게다가 실시간 데이터 분석을 통해 잠재적 문제를 조기 감지하고 해결함으로써 불량률도 감소시킬 수 있다는 평가다.

강관우 전 모건스탠리 이사 겸 더프레미어 대표이사는 “삼성반도체의 수율 확보 방식 전환은 세계 1위 반도체 기업 탈환이라는 절박한 목표 속에 나온 고육지책”이라면서 “하이 리스크 하이 리턴에 가까운 1c D램 다중수율 확보라는 도박이 성공함으로써 HBM4에서 글로벌 주도권을 되찾아갈 가능성이 높아졌다”고 설명했다.

 

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